讨论:雾化气压力(流量)是如何影响发射强度和背景强度的
我倒是尝试过!但是从我做的条件来看!我的
雾化器压力从25psi到35psi变化,功率从750到1350变化!实验下来,对我做的金属来看,基本上差别很小,所以我现在都用默认值!
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那我说说我不讨论的原因吧,每次设好参数再做的,开一次机做二三十个样品,总不能做做改一下压力再做个样看看背景,强度吧.每次的样品又不重复,怎么看影响啊?
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希望大家对这个参数在分析时有所重视
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讨论:雾化气压力(流量)是如何影响发射强度和背景强度的,大家在分析过程中是否调试过他
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我看清楚问题了,所以说我不具备条件啊.
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看来来你把问题没看清楚啊,我说的基本都是针对某类样品而言的,通过改变他来提高测定的灵敏度和信背比,影响很明显的,喜欢研究的朋友可以试试
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正在学习ICP,呵呵,大家多多照顾小弟``