那火花放电和辉光放电是不是可以直接测样品，不用前处理，可是只能测表面几个纳米的厚度的含量呢？不知道大家有没有用过这种发射光谱，因为我没有用过，可是我很想知道他们和ICP在测样品的时候有哪些各自的优势，以及和ICP，AAS，XPS，XRF等定量分析仪器的区别在哪里？

ICP总体属于湿法分析，当然现在有些改变了，可以说属于万能定量分析，曲线都可以用标液配出来，所以应用较广，AAS，原子吸收在K,NA PB等等有害元素有自己的特点和优势（同样属于湿法分析）但是不适用大批量多元素分析。XPS属于金相方法吧，有点记不住了。XRF主要做粉末试样，金属固体和金属粉末也有涉及，最强的是可以快速半定量，当然微区分析应用没怎么开发现在。火花直读和辉光直读（GD-OES，GD-MS）都可以用于金属固体的定量测定，但是GD-OES还可以用于非金属固体，金属和非金属涂层深度分析（GD-MS目前应用有报道，但不多）各仪器都有自己的特点，说的不对多笑纳。

　　光电直读是相对过去最早时的发射光谱摄谱分析法而言一种检测方法，火花直读是指采用火花激发源和光电直读检测方式的发射光谱仪，而同样辉光放电直读是指采用辉光放电激发源和光电直读检测方式的发射光谱仪。