去溶干扰就是去除溶剂的干扰,主要是扣除背景.

可以提高灵敏度,降低检出限.

　　去溶过程主要出现于分析液体样品的原子吸收和ICP发射光谱，它是指将雾化后的液（湿）气溶胶中溶剂挥发变为干气溶胶的过程。对于ICP来说，因为加热条件比较好，只要使气溶胶在分析通道的停留时间足够长，即使不用去溶装置也可使分析物完全挥发，而基本上没有什么去溶损失，所以ICP的去溶干扰并不十分明显，更不是很重要。