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碱熔法测硅的空白太高,如何办?

我用碱熔法测铝合金中的SI时,空白值达到0.25PPM,过程全部用非玻璃的器皿,这个空白值对样品的最终结果影响非常大,不知道有哪位测过此类样品中的硅,如有,交流一下好不好。
2人参与回答
,食品检测技术支持经理 2019-09-23回答
我遇到同样问题,溶样是用PTFE烧杯,空白也高的离谱,也望高手解答一下呀。
,食品保健品研发工程师 2019-09-23回答
是什么类型的铝合金?Si高的时候,20%NaOH20mL,HcL(1+1)20,H2O2少量几滴;Si低的时候,HCL+HNO3+H2O(6+1+7)
 
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