各位老师新年好！请教各位老师两个问题。1.ICP-MS 的锥接口，有的仪器采用锥+真空+锥，有的采用锥+锥+锥(三锥)，有的采用锥+嵌片+锥，中间那一部分(即真空/锥/嵌片)主要起什么作用？2.在去除中性粒子干扰方面，基本上是90度离轴或多次离轴。关于多次离轴，第一次离轴理论上就将中性粒子去除了，为什么还要二次，甚至三次离轴呢？多谢各位赐教。