ICP中的去溶干扰
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ICP中的去溶干扰

翻阅资料,看到ICP干扰类型------去溶干扰,字面上定义是溶液去溶存在的差异。大家有了解这些吗?能否结合自己的经验谈谈? 3 回答 ·  5 关注
共3个回答
这是超声雾化存在的问题,相当于提高了部分元素的灵敏度,量级高的元素就很容易产生对别的元素干扰,包括背景干扰、部分重叠干扰、重叠干扰。
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去除溶剂的干扰?
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去溶干扰,不了解
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