碱熔法测硅的空白太高，如何办？
我用碱熔法测铝合金中的SI时，空白值达到0.25PPM，过程全部用非玻璃的器皿，这个空白值对样品的最终结果影响非常大，不知道有哪位测过此类样品中的硅，如有，交流一下好不好。 2 回答 · 1 关注共2个回答
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我遇到同样问题，溶样是用PTFE烧杯，空白也高的离谱，也望高手解答一下呀。
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是什么类型的铝合金?Si高的时候,20%NaOH20mL,HcL(1+1)20,H2O2少量几滴;Si低的时候,HCL+HNO3+H2O(6+1+7)
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