ICP测定钛板中的S
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ICP测定钛板中的Si

测定Si时,空白值高得离谱,氢氟酸影响大吗?但氢氟酸浓度只有2%。 7 回答 ·  5 关注
共7个回答
只有SiF4存在就有挥发的可能性啊!是采用微波密闭方式溶解的?后以硼酸络合?
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厂家说是耐氢氟酸的,分析试剂空白后再分析纯水光强也降不下,拆下用纯水泡24小时能降下来,但喷试剂空白又上去了,是不是以前做样时沉积下的Si盐,遇氢氟酸溶解的结果。
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好好好好好好
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你的雾化器是耐氢氟酸的吗?
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SiF4是挥发性的.你觉得还是100%的Si吗?
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我是室温溶解。
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室温溶样SiF4挥发的可能性很小AlCl3和硼酸我都用过,但还是不行。
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