ICP -MS的一点
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仪器分析
ICP -MS的一点疑惑。
各位老师新年好!请教各位老师两个问题。1.ICP-MS 的锥接口,有的仪器采用锥+真空+锥,有的采用锥+锥+锥(三锥),有的采用锥+嵌片+锥,中间那一部分(即真空/锥/嵌片)主要起什么作用?2.在去除中性粒子干扰方面,基本上是90度离轴或多次离轴。关于多次离轴,第一次离轴理论上就将中性粒子去除了,为什么还要二次,甚至三次离轴呢?多谢各位赐教。
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