我觉得这个值不错了啊对于这个元素来说~多个数据出来后做个数据统计看看吧

咨询厂家为好

一般来说，容易受到电压不稳定的干扰，电磁辐射的干扰还没遇到过。可能没有遇到过那么强烈的电磁辐射吧

最主要的不能有单纯盐酸的存在.否则会有H2S 损失的.

这样的操作要按标准要求进行

XRD就是X-射线衍射啊！可以分析物质的结晶状况，计算晶胞参数，还可以定性的分析元素·

SiF4是挥发性的.你觉得还是100%的Si吗?

有了解了一些

你指的仪器检出限吧，不同的仪器不同，需要自己测定。

这条路走不通的。

尖端不平可能室你辅助气开的太小了烧成的吧。

哪个厂家的ICP啊

溶液是不是也要检查一下？

应该主要还是你说的这2种原因

傅立叶与光栅的区别吧

按你所说应是可行的，试试吧

你问错地方了。你应该去ICP-MS版块去问。你用的是哪家的，什么型号的仪器？仪器不带碰撞反应干扰消除技术吗？假如这样你只能牺牲灵敏度选择不受干扰的质量数了。或者用冷等离子体测定试试。

单质还是氧化物

换的话还是要工程师来吧，毕竟不属于常规的维护。

测高浓度样品是有可能发生最大峰不重叠的情况，但不会偏差很大的。差多了可能是有较大的光谱干扰了。