朋友，我是培养单晶的，样品只有几毫克，想测C H N S Cl Br（非金属）, 请指教。

最好找厂家的工程师询问,自己先别轻易移动.

王水溶解后ICP-AES，扣干扰后测杂质差减求镍。关键是试剂空白要控制好。99.99的纯物质我感觉ICP测量后差减效果比较好

国产仪器还是好使用的吧，毕竟国人的思路而成

俺只能写到这个了,就是再详细真正决定采购权的其实大部分对着东西什么也不清楚啊

我说的是一般大概~

硫酸只能部分溶解氧化锆的，要溶解氧化锆要用氢氟酸缓溶的

应该是这样的，赞

老兄： 用微波消解最好，因为待测物料中含量本来就底EPA的各种方法，损耗比较大。

我也是同样的ICP，我以为应该可以的，在改变背景位置后，从新计算方法，比较前后标准的强度（背景校正强度），数值发生变化。再从新计算试样的值。应该合理的。只是这个背景扣除的部位有时比较“随意”，让人有点不放心。

是一样的，没区别

主要看你是做什么样品?若为固体样,溶样较为麻烦,若为液体样,只要数分钟就可解决.

自己去IEC找啊

漏气肯定和表没关系

加内标吧，你就不会有这个烦恼了。一般内标都为Y(钇）。

氨水我倒是做过，1000w不稀释 会灭火。建议稀释十倍比较好。

还是厂家原配的好

可是总会碰上酸无法完全溶的样品呀，大家谈谈自己做的是否有一定要用碱熔的情况，呵呵

我也认为是样品处理的问题，和仪器的关系不大。

出现平头峰的最大可能就是：1、浓度太高，超出检测器线性响应范围。或者自吸。2、其它元素的干扰。这是我碰到的情况。