建议你去买一本等离子体光谱分析看看,会对你有很大帮助.

有可能直接是ND

涉及到多晶硅样品的处理和溶液稀释倍数的问题，直接考虑ICP-MS吧。至于方法，III、V族杂质、表面金属杂质分析的国家标准就快要发布了...

配制标准时，一般为弱酸，有的用碱，大部分为5%的硝酸，像As,Sn等基本上用盐酸，主要是保持标准离子能长期稳定储存

已经知道，呵呵

应该是其他原因，比如溶液中盐的浓度过高。

你已经让我们，以前只知道有雾化器，可没仔细的分过种类。

ICP的RSD大小与进样浓度有关。你看一下给出的RSD对应的浓度是多少。通常，浓度小，RSD大；浓度大，RSD小。

我一般斜率用70，峰宽用5，峰面积100~1000不等，其实这些都要看你实际情况了调整。机器都有默认值的，你可以先用这个试验，再根据情况调整。

看你们的用量了，用量大就选择液态氩。如果一年都用不完一罐液态氩，就不划算了。

我一次都没用过.很正常.

没有影响，因为有电磁屏蔽的，不然那个射频线圈发出的高频磁场你肯定受不了，

没有一定限制

那是什么声音，是噗么

我什么都不知道~~~

快门速度是在什么地方看到的？

这个问题还需要问当然是先找出是哪里漏气，再密封紧不就行了。很多人是不知道有漏气，你还好一些，至少知道在漏气。呵呵。。。

主要是等离子气流和辅助气流没有调整好，估计你是使用手动调节优化它们的时候没有调整好。

看你是检测什么物质，达到什么目标，还有采用什么方法....

不知道你用的是哪家的仪器,如果是JY的,里面有IMAGE功能,就是定性和半定量的方法.非常好用.具体的你可以和厂家联系.不过如果你的仪器比较老的话,可能就没装.