每个方法都包含一个设定的工作条件参数，在当前的分析方法中只会运行的当前的工作参数设置；当更换方法另种方法又会执行更换后所设置的参数。这是不冲突的。

新一轮的雾霾又滚滚而来，对于仪器来说，会受到影响吗？

加入2毫升氢氟酸，试试

可以通过设置来调整,我用的是PE公司的ICP它的方法里有一项设置可以一个方法里有不同的仪器参数,要求测定条件改变时,有足够长的稳定时间.一般情况下,很少使用这项功能只要将不同元素的条件折中一下就可以用于测定了.

像ICP.GC/MS這種大型儀器的校正費用大約要多少錢呢

可以加热赶,也可以加入硼酸形成氟硼酸根,减少对石英矩管的腐蚀.

一般检测每种样品，他们的参数都是规定的啊，比如检测重复次数，等离子体的流速，氮气流速，泵的流速，电频线圈的功率等等? 我现在的雾化室都只有0.8，你调0.5还不够大啊，看你在检测什么，然后查一下相关的参数

来个比较笨的办法--用浓硫酸--呵呵--曾经见过这样子处理的

就是把样品加上空白的值？那std1 std2是什么呢？有什么用？

可以，加大样品量用小体积的酸消解对结果影响不大，多元素分析用石墨炉恐怕不是办法，慢的要死，效率低。

成熟的仪器对于有效处理谱线干扰都会考虑,所以应当说消除谱线干扰主要靠操作人员把握.不同ICP由于分辨率有差别，同一条光谱线处的元素间干扰系数在使用不同仪器测量时会有所不同。元素间干扰系数的大小与光栅、光线出入射狭缝宽度以及光谱色散级序有关，同时还会随选择的背景修正点的不同而变化。实际操作过程中，应尽量避免选择可能会出现干扰谱线的波长点作背景修正。如果某一条谱线的强度主要由干扰元素的干扰构成，就不可能得出精确的该谱线强度数据。

我們是PE的ICP，買了自動進樣器。但是現在樣品不是很多，所以沒有用自動進樣器。個人認為手動進樣的數據控制會比自動進樣好，而且省氣。

你把狭缝调大点试试.波峰轮廓变宽,测试稳定些

一般是1%或者5%的硝酸.

你得完全溶解后,把里面的泥沙过滤掉,要不会堵塞雾化器.

滴定管? 萃取

建议你去买一本等离子体光谱分析看看,会对你有很大帮助.

有可能直接是ND

涉及到多晶硅样品的处理和溶液稀释倍数的问题，直接考虑ICP-MS吧。至于方法，III、V族杂质、表面金属杂质分析的国家标准就快要发布了...

配制标准时，一般为弱酸，有的用碱，大部分为5%的硝酸，像As,Sn等基本上用盐酸，主要是保持标准离子能长期稳定储存