应该可以吧,上海SGS通标公司就有两台瓦里安的

关于第一点，标准加入法的最佳加入量(⊿x）与最佳精密度有文献给出一个计算公式(与标准样品加入量(⊿x）与分析样品中分析物的含量之比率相关）。全文参见资料库“标准加入法 4 SAM的最佳加入量(⊿x）与最佳精密度”

方法 由瓦里安提供 做验收仪器检测限

原子吸收火焰的误差还行，但是因为需要换灯，原子吸收的速度比较慢，如果是石墨炉，那检测的精确度还是差一点，ICP来说速度快，精确度好，检出限低，原子荧光制度部分元素有用，很多元素无法检测，而且精确度也和原子吸收差不多，光电直读不需要样品前处理，无须处理成溶液，就可以测量，而且只可以测金属样品，X荧光要的准确度也不好，一般用于筛选

si212.412(158)mn279.482（120）p213.618(157)cr267.716(126)ni231.604(145)cu327.396(102)324.754（103）al396.152(85)cd226.502(148)sb206.833(162)sn189.989(176)pb220.353(152)hg184.950(181)as189.042(177)

介质一样，在一个组内，就可以

我用的是PE的，没用过国产的，你公司平时分析的样品不多的话，可以买个国产的慢慢研究，我们也可以和你一起进步啊！利国利民，大好事一件！

先关机,把水机里原来的水放了,再加进去新的干净水就OK啦

如果要做的好非得改变观测高度和功率，溶解样品要用优级纯试剂及高纯水，尽量避免使用玻璃容量瓶，（有塑料容量瓶卖）。网上有类似文献，可以查的，还有，注意用标准样品不要用标液。

pe的200DV就要压缩空气,比较省氩气.其他仪器好象不用,具体的还是要厂家安装.

上树脂分离,然后把树脂灰化.最好用火试金分离富集.溶解完全.锰铁对金干扰严重.

对了，样品也用了稀盐酸配制的，有什么影响么？高人们，来解决下。。。

只是比较严格的做法，没有说必须得这么做的。酸洗得目的也就是洗得更干净而已。

没听过这家，，你直接联系厂家吧，，如果能找到的话。。。

多晶硅行业的，用于监控原料硅矿的金属杂质含量。

活性氯，加淀粉碘化钾试纸检验。亚硝酸离子，加盐酸赖乙二胺检验。

确实没有研究过,学期中.但好象没有定论啊

这几个参数值我是一边调一边看，最后前后都能满意，再走几针标准品和样品也都符合就行了。

我就看一下氩气够不够,水循环温度是否稳定,蠕动泵运转是否正常.观测窗和炬管是否太脏..

制备空白的指定检出限的MDL，CRDL应该是多少？怎样确定？