自动进样可以解放你自己一些时间，但是要准备和清洗还是比较麻烦

就在左面部分，把档板拉下来就可以了

也就是得多依靠经验积累了，时间长久做的多了熟悉仪器也就基本能够基本判定一些线的好坏了。我在测定时一般会根据相对强度和周边干扰来确定四五根线，最终选择相近的两三个点取其平均，这样应该也还是可取之法。但对于校正，是指用标准样品校正么？

不知道你遇到过这种现象没有,有时可能是你软件操作不对,或软件的响应时间比较慢,可能与你的计算机有关系,

先清除表面油迹，在用乙醚与无水乙醇3：7混合，倒入瓶中1/5处摇晃，三至四次便可以了这个最干净。也可用温水加洗衣粉多次洗涤。

能测溴，但效果不好

首先要看预算有了预算才能确定买进口的还是国产的如果经费足，进口品牌可以选择PE的国产的话，瑞利、普析的质量都可以

用哪条线是根据样品的具体情况来定的,选一条没有其他元素干扰的线来做才准确.

难啊，这相当于纯品里面为0.1ppm,这还是可以达到的。但一稀释成溶液浓度就更低了。

我只听说过哈希的

你最好配上有机进样系统。

用硫酸就可以处理氧化铝样品.一般,0.2g品水润湿后,加2ml硫酸加热即可.

应该是HF才有影响吧, 一般清洗用1%HF,太高浓度大概就有腐蚀性了.

除去硅后,碱熔消解,酸化后测定

　　实验方法如何？前处理如何？数据？大致写一下。　　一点信息都没有，大家怎么帮你解决问题？

icp机子,我误用过工业纯的,没什么不同啊

基本上可以这样认为吧，可通过别的办法进一步确认.

283.55处空白没比样品高啊，倒是样品旁边有一个很高的干扰峰,这条线并不是很好

难道移液管比移液枪更准确？、、？

长官们，帮帮忙吧！为什么都是原子吸收和分光光度的方法，没有icp的标准方法呢？

一般来说是三分之二或是五分之三

好像普析的分光名声不错。

有的能做，有的可能达不到，用MS应该都没有问题

　　对同一条谱线是同时检测的，但对不同元素和不同谱线是顺序检测的，所以不能像其它采用固体成像器件为检测器的仪器一样被称为全谱直读仪器。

氢氟酸消解玻璃，主要是形成挥发性的氟硅物，加酸有助于反应，酸性太弱反应效果比较差！

大家都知道这事，所以我说需要领导决定，领导说不该了，就这样，我也是没办法的。

我对次感兴趣啊

波长位移的条件很多:光室温度,RF功率稳定情况,等离子体稳定情况等等.强度的纵向变化主要为雾化系统不稳定造成的.

还可以用混合溶剂(纯碱+四硼酸钠),

油污类的可以用碱性洗液或有机溶剂来清洗，其它类的大部分都采用K2Cr2O4.H2SO４洗液来完成的．